2026年12月22日
プロセス技術,実装,大学・研究機関,施設見学
東北大学 半導体プロセス実習ツアー
東北大学のクリーンルームで、半導体プロセスを実際に体験できる少人数制の実習プログラムです。半導体プロセスの基礎を学ぶ講義に加え、フォトリソグラフィ、ドライエッチング、レジスト除去などの主要工程を、研究施設内で実際に体験します。レジスト塗布や露光・現像など、自ら手を動かしながら、半導体製造の原理とプロセスへの理解を深めます。加工した試料はお持ち帰りいただけます。
「自分でやってみる」ことで、半導体づくりを実践的に学べる1日限定のプログラムです。
- 日時
- ツアー開催日時:2026年12月22日(火)9:45~17:30
*現地集合 現地解散となります。
*時間は前後する可能性がございます。
- 場所
- 開催場所:東北大学 西澤潤一記念研究センター
集合場所:東北大学 西澤潤一記念研究センター 入口
アクセス:https://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/museum/index.php/access/
*ご自宅から集合場所の往復の交通については自己手配となります。
- 参加対象者
- ・半導体・エレクトロニクス分野の技術者・研究者
・半導体プロセスを実践的に学びたい方
・クリーンルームで実際の半導体プロセスを体験してみたい方
・半導体に興味・関心があり、実際に手を動かして理解を深めたい方
- 費用
- 1名あたり80,000円
*お支払先は、MEMSパークコンソーシアム となります。
MEMSパークコンソーシアム:https://www.mems-pc.jp/
*当ページは応募申込専用フォームです。
- 申込締切
- 応募申込締切:2026年10月14日(水)23:00まで
- 定員
- 8名
2名/社を上限
- お問合せ先
- 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター
大高剛一/早川昌子
E-mail:koichi.ohtaka.e8(at)tohoku.ac.jp /masako.hayakawa.b1(at)tohoku.ac.jp
※(at)を@に置き換えて下さい
Tel. 022-229-4113 / Fax. 022-229-4116
RISE-A事務局 松島
info@rise-a.jp
- 主催
- 共 催: 東北大学マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC)・MEMSパークコンソーシアム(MEMSPC)・一般社団法人RISE-A
- 備考/注意事項
- 【参加可否について】
・申込完了=参加確定ではございません。応募多数の場合は抽選とし、抽選結果は10月23日(金)までにRISE-A事務局より応募者全員にご連絡いたします。
届かない場合は、お手数ではございますが、info@rise-a.jpまでご連絡ください。
・RISE-A会員の参加が優先される可能性がございます。
【支払について】
・参加が確定した方には、別途参加費のお支払いに関する案内をお送りいたしますので、お支払いお手続きください。
フライヤーPDF
タイムテーブル
| 時間 |
内容 |
| 9:45~10:30 |
イントロ |
| 10:30~12:30 |
フォトリソグラフィ(レジスト塗布、ベーク、露光、現像、乾燥) |
| 12:30~13:30 |
昼食 ※ご持参又は事前注文(詳細はお支払いに関するご案内時に) |
| 13:30~14:30 |
ドライエッチング、レジスト除去 |
| 14:30~15:30 |
休憩・見学(展示室) |
| 15:30~16:30 |
SEM観察 |
| 16:30~17:30 |
体験(ワイヤボンダ) |
| 17:30~ |
挨拶・解散 |
※参加人数により2グループにわけて時間をずらして進行します。
※1人ずつの手作業のため、時間が前後することがございますので予めご了承ください。